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日本日立冷场发射扫描电镜SEM

简要描述:日本日立冷场发射扫描电镜SEM的核心参数:
产品类型:落地式/传统大型
电子枪种类:冷场发射
二次电子图象分辨率:0.6 nm@15kV;0.7nm@1kV
放大倍数:20-2,000,000x
加速电压:0.5-30kV(标准模式)
背散射电子图像分辨率:nm

  • 产品型号:SU8600
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-09-23
  • 访  问  量:706
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详细说明:

日本日立冷场发射扫描电镜SEM核心参数:

产品类型:落地式/传统大型

电子枪种类:冷场发射

二次电子图象分辨率:0.6 nm@15kV;0.7nm@1kV

放大倍数:20-2,000,000x

加速电压:0.5-30kV(标准模式)

背散射电子图像分辨率:nm

日本日立冷场发射扫描电镜SEM创新点:

1、支持自动获取数据在FE-SEM的观察和分析中,需要根据测量样品与需求调整观察条件。调整所需时间的长短取决于用户的操作熟练度,这是造成数据质量与效率差异的因素之一。此系列产品标配自动调整功能,可避免人为操作导致的差异。此外,随着仪器性能的提升,需要获取的数据种类与数量也在增加,手动获取各种大量数据会大大增加用户的作业负担。此系列产品可选配“EMFlow Creator",用户可根据自身需求设定条件,自动获取数据,这对于未来通过获取大量数据实现数据驱动开发起到重要作用。

2、增加获取信息的种类与数量通过SEM能够收集到多种信号,且此系列产品多可以同时显示和存储6个检测器的信号。在减少图像获取次数的同时能够获取多种信息。此外,为一次性获取大量信息,像素扩展到了40,960 x30,720(选配),是之前型号的64倍。利用这一功能,可凭借一张数据图像有效评估多处局部的细微结构。

3、增强信号检测能力,SU8600开发了多个新型选配检测器,加强了对凹凸信息、发光信息的检测能力。此外,还提高了背散射电子信号检测的响应速度。

上市时间:2021年12月。

产品介绍:

FE-SEM获得的图像分辨率高,信息丰富,样品处理相对简单,并且它可以观察、测量并分析样品的细微结构,因此被广泛应用于纳米技术、半导体、电子器件、生命科学、材料等领域。近年来,以MaterialsIntegration为代表,其应用领域及用途在不断扩展,短时间内获取大量数据,减轻作业负荷成为市场的一大需求。为满足这一需求,此次特推出的SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高质量图像、大束流分析及长时间稳定运行的冷场成像技术,同时还大大提升了高通量、自动数据获取能力。

在细微结构分析中,SU8600可以实现低加速电压观察,对高分子等易受电子束照射影响的材料进行高分辨观察。该系列产品的特点如下:

1、支持自动获取数据

在FE-SEM的观察和分析中,需要根据测量样品与需求调整观察条件。调整所需时间的长短取决于用户的操作熟练度,这是造成数据质量与效率差异的因素之一。此系列产品标配自动调整功能,可避免人为操作导致的差异。

此外,随着仪器性能的提升,需要获取的数据种类与数量也在增加,手动获取各种大量数据会大大增加用户的作业负担。此系列产品可选配“EMFlow Creator",用户可根据自身需求设定条件,自动获取数据,这对于未来通过获取大量数据实现数据驱动开发起到重要作用。

2、增加获取信息的种类与数量

通过SEM能够收集到多种信号,且此系列产品多可以同时显示和存储6个检测器的信号。在减少图像获取次数的同时能够获取多种信息。

此外,为一次性获取大量信息,像素扩展到了40,960 x30,720(选配),是之前型号的64倍。利用这一功能,可凭借一张数据图像有效评估多处局部的细微结构。

3、增强信号检测能力

SU8600开发了多个新型选配检测器,加强了对凹凸信息、发光信息的检测能力。此外,还提高了背散射电子信号检测的响应速度。



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